ADD 텅스텐구리 고밀도 라이너 재료 세계 첫 개발

기사 분류 > 핫뉴스

ADD 텅스텐구리 고밀도 라이너 재료 세계 첫 개발

2006년 1월 1일 (일) 17:04:00

비 로그인 중이십니다.

로그인을 하시면 이메세지는 나타나지 않습니다.

비로그인 상태로 1 회 추가 열람 하실 수 있습니다.
이 후에는 로그인을 하시어야만 서비스가 가능 합니다.

로그인

CLOSE

ADD 텅스텐구리 고밀도 라이너 재료 세계 첫 개발 국방과학연구소(소장 안동만)는 지난 2000년부터 올해까지 6년간의 연구 끝에 폭약의 일종인 성형 작약탄의 관통성능을 획기적으로 향상시킬 수 있는 텅스텐-구리 고밀도 라이너(관통소재) 재료(나노복합분말)를 개발했다고 지난달 밝혔다.이번에 개발한 재료는 기존의 성형작약탄 라이너 재료인 구리보다 밀도가 크고 동적 변형 특성이 우수해 관통력을 기존재료 대비 0.5배 이상 향상시킬 수 있다. 이 재료는 또 방열 및 전기접점 등 전기·전자 분야에서도 응용이 가능, 민수분야에도 기술적 파급효과가 클 것으로 ADD측은 보고 있다.ADD 관계자는 “그동안 미국을 비롯한 선진국에서도 텅스텐-구리 재료의 개발을 위해 많은 연구가 수행되었으나, 만족할 만한 성과를 얻지 못했던 분야”라며 “민간업체로부터 기술이전에 대한 요청이 쇄도하고 있다”고 말했다.